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美國加利福尼亞州圣何塞國際先進光刻技術博覽會(SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY)
展會時間:
2026年2月22日-26日
展會行業:
展館圖:
中國組展機構:
盈拓國際展覽
標準展位: 查看價格
光地展位: 查看價格
3.0
3星展會
  • 規模度

  • 專業度

  • 評價度

  • 觀眾度

  • 市場度

距開展還剩
305
展會介紹
英文名稱:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
英文簡稱:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
舉辦周期:一年一屆
展會規模:20000-50000

? ? ?美國加利福尼亞州圣何塞擁有世界上最大的技術專長集中地,并在專利生成方面領先于美國。

? ? ?該市擁有 25 家員工人數在 1,000 人以上的公司,包括 Adobe Systems、BEA Systems、Cisco、Xilinx、Lam Research 和 eBay 的總部,以及偉創力、惠普、IBM、日立、安捷倫科技和洛克希德馬丁的主要設施。 ? ? ?探索將在 SPIE 數字圖書館中發布的來自世界各地的數百個演示文稿,利用各種技術和網絡活動來讓您了解最新的研究和同行的最新動態,世界級的演講者分享有關行業和學術界的最新挑戰和機遇的見解。

中國組展機構:盈拓展覽,以創新科技和服務體驗為核心,獲得客戶好評。20余年行業經驗,為中國外貿企業提供高效、專業的展覽服務。

展品范圍
光學和 EUV 納米光刻
DTCO 和計算模式
計量、檢測和過程控制
新穎的圖案化技術
圖案化材料和工藝的進展
用于納米圖案化的先進蝕刻技術和工藝集成
展館信息
往屆數據
參展商: 1,588 家參展商
參展觀眾:來自 75 多個國家的 24,000 名游客
展覽面積:30,000平方米
*凡本網注明來源:“盈拓國際展覽導航”的所有作品,版權均屬于盈拓國際展覽導航,轉載請注明。
*凡注明為其它來源的信息,均轉載自其它媒體,轉載目的在于傳遞更多信息,并不代表盈拓國際展覽導航贊同其觀點及對其真實性負責。
美國加利福尼亞州圣何塞國際先進光刻技術博覽會
SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
展會時間:
2026年2月22日-26日
展會行業:
舉辦周期:
一年一屆
展會規模:
20000-50000
中國組展機構:
盈拓國際展覽
3.0
  • 規模度

  • 專業度

  • 評價度

  • 觀眾度

  • 市場度

展會介紹

? ? ?美國加利福尼亞州圣何塞擁有世界上最大的技術專長集中地,并在專利生成方面領先于美國。

? ? ?該市擁有 25 家員工人數在 1,000 人以上的公司,包括 Adobe Systems、BEA Systems、Cisco、Xilinx、Lam Research 和 eBay 的總部,以及偉創力、惠普、IBM、日立、安捷倫科技和洛克希德馬丁的主要設施。 ? ? ?探索將在 SPIE 數字圖書館中發布的來自世界各地的數百個演示文稿,利用各種技術和網絡活動來讓您了解最新的研究和同行的最新動態,世界級的演講者分享有關行業和學術界的最新挑戰和機遇的見解。

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光學和 EUV 納米光刻
DTCO 和計算模式
計量、檢測和過程控制
新穎的圖案化技術
圖案化材料和工藝的進展
用于納米圖案化的先進蝕刻技術和工藝集成
展館信息
往屆數據
參展商: 1,588 家參展商
參展觀眾:來自 75 多個國家的 24,000 名游客
展覽面積:30,000平方米
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